Koostöö CNM’i Elektrooniliste&Magnetiliste Materjalide&Seadmete Grupi(Electronic & Magnetic Materials & Devices Group) ning Argonne’i Energiasüsteemide Osakonna(Energy Systems Division) teadlaste vahel on viinud täiesti uue kahe- ja kolmemõõtmeliste funktsionaalsete nanomaterjalide valmistamise meetodini.
Kunstniku nägemus nanoskoopiliselt musterdatud materjalist, mille mõõtmed on muudetavad tänu aatomkiht sadestusele plokk kopolümeeridele.
Teadlaste uus lähenemine kombineerib plokk kopolümeeride iseorganiseerumise aatomkiht sadestuse isepiirava ja valikulise protsessiga, vahendab physorg.com.
Valides sobiva polümeeri ja sadestuse esialgsed keemilised omadused, on võimalik saavutada ülimalt valikulist sadestamist, kus anorgaaniline materjal kasvatatakse üksiku polümeeri ploki sisse.
Plokk kopolümeeride ratsionaaldisaini ning sadestusparameetrite valimise läbi saab sünteesida kontrollitavate mõõtmete, vahede ja sümmeetriaga mustriga disainmaterjale.
Uue meetodi potentsiaalsed rakendused laienenevad pea kõigile tehnoloogiatele, kus perioodilised nanomaterjalstruktuurid on vajalikuks eelduseks.